全新功能

 

新功能在处理杂散光和荧光模型、以及增强OpticStudio性能上,做到使用上的更快更便捷。

全新杂散光分析工具协助使用者鉴定,帮助阻止在光学系统中不需要的光线,并精化杂散光分析,从而快速提供精确持续的结果。致力于生物医学、汽车照明,以及其它使用荧光模型领域的光学工程师们,现在能够模拟各种磷光体和荧光材料模型。使用性能改进包括在改善设计同时,更快呈现分析窗口、光路图结果以及阴影模型图。并且,现在您只需要简单的两个步骤,便可将软密钥从一台电脑转移到另一台电脑。本次版本发布包括了最新 Bernhard Halle 镜头目录,全新日本尼康材料库,以及更新的NHG, Ohara, Zeon, and Hoya 材料库。

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光线追踪

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适用于专业版和旗舰版
OpticStudio 16.5 的全新杂散光分析工具协助使用者鉴定,帮助阻止在光学系统中不需要的光线,并精化杂散光分析,从而快速提供精确持续的结果。新功能包括如下:
 
  • 使用全新非序列几何 MTF 计算法测量机械安装或杂散光的影响
  • 通过使用全新 ZRD 字符串过滤器快速分离重要资料,并在光线数据库中调查光线数量
  • 通过使用全新字符串过滤器限定光线数量,从而在光路图和阴影模型系统查看器中快速展现杂散光路径
 

光致发光

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仅适用于旗舰版                                                                                                                                            

在 OpticStudio 15 中加入了磷光体和荧光材料模型。根据用户反馈,如今我们拓展了 OpticStudio 16.5 在这一方面的能力,您能够模拟各种磷光体和荧光材料模型。全新功能包括以下:

  • 使用全新的米氏散射粒子密度设置和波长移位来准确地模拟非散射材料中的光致发光
  • 够通过使用最新的光致发光平均自由路径来调整模型的色温
  • 使用最新的光致发光模型米氏散射粒子密度设置(Photoluminescence Mie Particle Density),来增加角度的均匀性,并减少颜色随角度变化的效应
 

使用性能

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适用于所有版本:标准版、专业版和旗舰版                                                                                                                                                                                                                                               

OpticStudio 16.5 包含了各种使用性能的提升,您能够:

  • 通过更快呈现分析窗口增强数据可视化功能。
  • 改善设计同时更快得到光路图以及阴影模型图结果
  • 通过全新的相位参考手动设置所有惠更斯计算,从而更准确轻松地分析复杂的衍射极限系统
  • 现在您只需要简单的两个步骤,便可将软密钥从一台电脑转移到另一台电脑
  • 最新 Bernhard Halle 镜片目录,全新日本尼康材料目录,以及更新的 NHG, Ohara, Zeon, and Hoya 材料库
 

程序编程

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适用于专业版和旗舰版

在 OpticStudio 15 中,我们引入了全新的API 程序界面(Application Programming Interface),其应用了COM/.NET 结构。在 OpticStudio 16.5 中我们增加了API的灵活性和运行速度:

  • 通过全新的 ZOS-API 交互式拓展将OpticStudio与第三方应用程序相关联 
  • 通过 API 分析来节省读取光线数据文件的时间,文件读取速度提升360倍